Заместитель главы российского Минпромторга Василий Шпак поделился информацией о создании отечественной лазерной установки для литографии.
По словам чиновника, аппарат будет готов не раньше 2026 года, и после этого Россия станет уже третьей страной, выпускающей такие установки — вслед за Японией, а также США (компании GigaPhoton и Cymer соответственно).
На сегодняшний день специалистами ГК «Лассард» созданы первые прототипы лазера в количестве двух единиц, их полноценные испытания будут запущены будущем году, а к 2026 году планируется наладить массовое производство.
Отечественный литографический лазер начнут применять в соответствующем оборудовании, которое позволит производить 350-нанометровую полупроводниковую продукцию с дальнейшими планами по переходу на технологические нормы 130 нм.
Мало того, Шпак уточнил, что ведутся работы по освоению еще более тонких, хотя и не передовых, техпроцессов, для чего разрабатываются необходимые материалы и введутся предварительные разработки по установкам на 90, а также 65 нм.
К слову, еще в 2022 году говорилось о том, что в России уже готов первый прототип литографической установки, на которой даже были получены 7-нм тестовые образцы.